一、項(xiàng)目背景：半導(dǎo)體迎來第二發(fā)展曲線

在生成式人工智能推動(dòng)下，近兩年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)大幅反彈。根據(jù)多方預(yù)測(cè)，半導(dǎo)體行業(yè)將持續(xù)增長(zhǎng)，2030年有望突破1萬億美元里程碑。 在我國(guó)，面對(duì)半導(dǎo)體被‘卡脖子’的嚴(yán)峻現(xiàn)實(shí)，其發(fā)展速度迅猛，且需求量較大。國(guó)家對(duì)半導(dǎo)體發(fā)展也高度重視，并持續(xù)提出支持政策。

二、企業(yè)概況：致力于半導(dǎo)體技術(shù)國(guó)產(chǎn)化

精量科技服務(wù)的某半導(dǎo)體企業(yè)致力于國(guó)產(chǎn)化替代，專業(yè)布局碳化硅工藝，經(jīng)過多年工藝積累，目前形成以刻蝕工藝設(shè)備、薄膜沉積工藝設(shè)備等系列產(chǎn)品，主要用于半導(dǎo)體前道工藝階段，如碳化硅、氮化鎵等化合物半導(dǎo)體加工。

三、工況需求：超供貨周期，保證生產(chǎn)質(zhì)量

該半導(dǎo)體企業(yè)為下游客戶提供薄膜沉積、刻蝕、除膠等設(shè)備，用于在基底材料上制作和沉積薄膜圖層，以形成芯片的功能層。在化學(xué)氣相沉積（CVD）過程中，需用氣液混合蒸發(fā)器將液體源材料蒸發(fā)并混合，從而在沉積過程中形成均勻的薄膜。

該半導(dǎo)體企業(yè)需要以替代某國(guó)外品牌，并提出以下需求： 
1.供貨周期短且穩(wěn)定; 
2.確保液體充分蒸發(fā)； 
3.響應(yīng)速度快，混合蒸發(fā)氣體輸出均勻; 

4.液體流量精度達(dá)到規(guī)定標(biāo)準(zhǔn).

四、解決方案：供貨周期短，保證生產(chǎn)質(zhì)量

在了解需求后，我們根據(jù)混合的介質(zhì)及工況，為客戶設(shè)計(jì)氣液混合蒸發(fā)系統(tǒng)。 

系統(tǒng)配置了可控蒸發(fā)混合器x1、液體質(zhì)量流量控制器x1、氣體質(zhì)量流量控制器x1、溫度控制儀x1。

                            圖：用于氣液混合蒸發(fā)系統(tǒng)的ACU20CEM可控蒸發(fā)混合器產(chǎn)品 

系統(tǒng)配置如下： 

可控蒸發(fā)混合器：氣體最大量程10 ln/min，液體（水）最小量程120g/h。 
液體質(zhì)量流量控制器：準(zhǔn)確度±0.25% F.S，重復(fù)精度0.05% F.S。 
氣體質(zhì)量流量控制器：準(zhǔn)確度±0.5% F.S，重復(fù)精度 ±0.2% F.S。 

溫度控制儀：可控制最高達(dá)200℃~300℃高溫，充分滿足指定介質(zhì)蒸發(fā)條件。

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